联系电话:028-85412379
  邮箱:renpp2017@scu.edu.cn
  地址:成都市武侯区望江路29号四川大学原子核科学技术研究所内
  邮编:610064
博士生导师
芶富均


       芶富均:博士,研究员,博士生导师,“成都人才计划”特聘专家。      
      1993年毕业于兰州大学材料系。1996年获四川大学原子核科学技术研究所核技术及应用硕士学位。1999年在电子科技大学获材料物理博士学位。2000-2010年先后在英国威尔士大学、荷兰莱顿大学、荷兰皇家科学院等离子体物理研究所、比利时安特卫普大学任博士后。2009年作为人才引进在四川大学原子核科学技术研究所工作。
      2009年组建先进核能实验室,主要从事液态锂回路和直线等离子体装置的设计,各类新型等离子体源的开发和应用,等离子输运以及在高密度等离子体环境下材料表面发生的各种物理、化学反应机理的研究,建立了国际一流的液态锂综合实验平台。主要撰写等离子体薄膜沉积动力学英文专著1部。已发表论文80余篇。2010年回国后主持科技部重大专项ITER核聚变项目子课题2项、自然基金2项和参加自然科学基金和863项目各1项。申请并受理热扩散弧放电 PECVD等离子体发生装置相关专利11项。
      首批受聘科技部国际热核反应聚变堆国内重大专项人才课题负责人并获科技部聘书。真空科学与技术学报理事。中国电工技术学会电子束离子束专业委员会委员。目前是英文杂志The Open Surface Science Journal 编委。多个国际知名杂志如Surface Science, Applied Surface Science,Journal of Nuclear Materials和Journal of Applied Physics审稿人。
 
主要研究领域
等离子体与聚变堆壁材料相互作用研究
等离子体废水处理机制及应用研究
液态锂回路设计及相关技术研究
液态金属储能研究
(拟招收博士后、博士生、硕士生,有意者请联系)
电  话: 02885417686
E-Mail:gfujun @scu.edu.cn
 
代表性论文
1) F. Gou, A. Gleeson, A. W. Kleyn,MD Simulations of Plasma Etching Semiconductors, International Review of Physical Chemistry (影响因子, 8.126), 27 (2008) 229-271
2) F. Gou, M. A. Gleeson, A. W. Kleyn, Theoretical modeling of energy redistribution and stereodynamics in CF scattering from Si (100) under grazing incidence, Phys. Chem. Chem. Phys.8, 2006, 5522 (影响因子, 3.343)
3) F. Gou
, M. A. Gleeson, A. W. Kleyn, CF3 interaction with Si (100)-(2x1): Molecular Dynamics Simulation, Surface Science, 601(2007) 4250.
4) F. Gou
, M. A. Gleeson, A. W. Kleyn, CH3 interaction with Si (100)-(2x1): Molecular Dynamics Simulation, Surface Science,  601( 2007) 3965
5) F. Gou, Meng Chuanliang, Z.T. Zhouling and Qiu Qian, Atomic simulation of SiC etching by energetic SiF3, Journal of Vaccum Science and Technology. A 25, 680 (2007)
 
 
 
 



Copyright :copyright: 2014 All Rights Reserved 辐射物理及技术教育部重点实验室 版权所有 技术支持:金明科技